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2022年非诚勿扰官网报名方式,相亲节目报名入口 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好(hǎo),来看一则(zé)突发消(xiāo)息(xī)。

  美光公司(sī)在华销(xiāo)售的产品未通过网络安(ān)全审查

  据网信办消息,日前,网络安全审查办公(gōng)室依法对美光(guāng)公(gōng)司在华销售产品(pǐn)进行(xíng)了网络安全审查。

  审查(chá)发现,美光公司(sī)产品存在较严(yán)重网络安全问题隐患,对我国关键(jiàn)信息基础设施供应链造成重大安全风险,影响我国国(guó)家安(ān)全。为此,网(wǎng)络安全审查办公室依法作出不予通(tōng)过网络安全审查的结论。按照《网络安全法》等法律(lǜ)法2022年非诚勿扰官网报名方式,相亲节目报名入口规,我国内(nèi)关(guān)键信息(xī)基(jī)础设(shè)施的运(yùn)营者(zhě)应停止采购美光公司(sī)产品。

  此次对美光公司产品进行网络安全(quán)审(shěn)查(chá),目(mù)的(de)是防范产品网络安全问题危害国家(jiā)关键信息基础设(shè)施安全,是(shì)维护国家安全的必要措施。中国坚定推进高水平(píng)对外开放,只要遵守中国法律(lǜ)法规(guī)要(yào)求,欢迎各国企(qǐ)业(yè)、各类平台产品服(fú)务进入中国市场。

 2022年非诚勿扰官网报名方式,相亲节目报名入口 半(bàn)导(dǎo)体突发!中(zhōng)国出手:停止(zhǐ)采购!

  3月(yuè)31日,中国网(wǎng)信网发文称,为保(bǎo)障(zhàng)关键信息基础设施供应链(liàn)安全,防(fáng)范产品问题隐患造成网络安全(quán)风险,维护国家安(ān)全,依据《中华人民共和国国家安全法》《中华人民(mín)共和国网(wǎng)络安(ān)全(quán)法》,网络(luò)安全审查办公室(shì)按照《网络(luò)安全审查办法》,对美光公司(sī)(Micron)在(zài)华销售的产品实施网络安全审查。

  半(bàn)导体突发!中国出(chū)手:停止采购!

  美光是美国的存储(chǔ)芯片行业龙(lóng)头,也是全球(qiú)存储芯片(piàn)巨(jù)头之一,2022年(nián)收入来自中国市场收入(rù)从此前高峰57%降至2022年约(yuē)11%。根据市场咨询(xún)机构(gòu) Omdia(IHS Markit)统(tǒng)计,2021 年(nián)三星电(diàn)子、 铠侠、西部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全(quán)球 NAND Flash (闪存)市(shì)场份额(é)约为 96.76%,三星电子、 SK 海力士、美(měi)光在全球 DRAM (内(nèi)存)市场份额约为 94.35%。

  A股上市公(gōng)司(sī)中(zhōng),江波龙(lóng)、佰维存储等公司披露过美光(guāng)等国际(jì)存(cún)储厂商为公(gōng)司供应商(shāng)。

  美光在江波龙采购占比已经显著(zhù)下(xià)降,至少已(yǐ)经不是主(zhǔ)要大供(gōng)应商。

  公告显(xiǎn)示, 2021年美光位列江波龙第一大存储晶圆供应(yīng)商,采购约31亿元,占比33.52%;2022年,江波(bō)龙第(dì)一大、第二大和(hé)第三大(dà)供应商采购金额占比分(fēn)别(bié)是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波龙已经在存储产(chǎn)业(yè)链上下游建立国内外广泛合作(zuò)。2022年年报显示,江(jiāng)波(bō)龙与三星(xīng)、美光、西(xī)部数据等主要存(cún)储晶圆原(yuán)厂签署了长(zhǎng)期(qī)合约,确(què)保(bǎo)存储晶圆供应的稳定性,巩固公司(sī)在下游市场的(de)供应优势,公司也与国(guó)内(nèi)国产(chǎn)存储晶圆原(yuán)厂武汉(hàn)长(zhǎng)江存储、合肥长(zhǎng)鑫保持良(liáng)好的(de)合作。

  有(yǒu)券(quàn)商(shāng)此(cǐ)前就分析,如(rú)果美光在中国(guó)区销售受到限制,或将(jiāng)导致下(xià)游客户转而采购国外三星(xīng)、 SK海力(lì)士,国(guó)内长江(jiāng)存储(chǔ)、长鑫存储(chǔ)等(děng)竞对产品

  分析(xī)称,长存、长鑫(xīn)的上游设备厂或从中受益。存储器(qì)的生产已经演进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的(de)工艺。另外(wài)NAND Flash现在已(yǐ)经(jīng)进入3D NAND时代,2 维到3维的(de)结构(gòu)转变使刻(kè)蚀和(hé)薄膜成为最关(guān)键、最大(dà)量的加工设(shè)备。3D NAND每层均需要(yào)经过薄膜(mó)沉积工(gōng)艺步(bù)骤,同时刻蚀目前前(qián)沿要刻到 60:1的深孔,未来可能会(huì)更深的(de)孔或者沟(gōu)槽(cáo),催生更多设备需求(qiú)。据东(dōng)京(jīng)电子披露,薄膜沉(chén)积设备及(jí)刻蚀(shí)占(zhàn)3D NAND产线资本开支(zhī)合计(jì)为75%。自(zì)长江(jiāng)存储(chǔ)被加入美国限制(zhì)名单,设备国产化进程(chéng)加速(sù),看好拓(tuò)荆科(kē)技(薄膜沉(chén)积)等相关公司份额提(tí)升,以及存储业(yè)务占比较高(gāo)的华海清科(CMP)、盛美上海(清(qīng)洗)等(děng)收入(rù)增长。

 

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