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抗日战争胜利的时间是哪一年,抗日战争胜利的时间是哪一年到哪一年

抗日战争胜利的时间是哪一年,抗日战争胜利的时间是哪一年到哪一年 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日消息,国家知识产权局局长申长(zhǎng)雨在新闻发(fā)布(抗日战争胜利的时间是哪一年,抗日战争胜利的时间是哪一年到哪一年bù)会上表示,将统筹推(tuī)进各(gè)类知识产权(quán)法律法规和制度(dù)规则的制修订(dìng)工作(zuò)。其中,修改(gǎi)完善集(jí)成电(diàn)路(lù)布图(tú)设计保(bǎo)护条例,适应(yīng)大规模集成电(diàn)路(lù)发展需要,助(zhù)力(lì)芯片产业(yè)做大做强,服务数字经济更好(hǎo)发展。

  加强大数据(jù)、人工智(zhì)能、基因技(jì)术等新领域新业态知识产权(quán)规则(zé)研(yán)究(jiū),助力相关领(lǐng)域创新发展(zhǎn)。同时,积极(jí)参与(yǔ)知识产(chǎn)权国际(jì)规(guī)则制(zhì)定,更(gèng)好对接高标(biāo)准(zhǔn)国际(jì)经贸规则,助力高水平对外开放(fàng)。

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