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　　美光公司(sī)在华销售的产(chǎn)品未通(tōng)过网络安(ān)全审(shěn)查

　　据网信办消息，日前，网络安全审(shěn)查办公室依法对(duì)美光(guāng)公司在华销售产品进行(xíng)了(le)网络(luò)安全(quán)审查。

　　审查发现，美光公司(sī)产(chǎn)品存在(zài)较严重(zhòng)网络安全问题隐患(huàn)，对我国(guó)关键信息基础(chǔ)设施供(gōng)应(yīng)链造成重大安全风险(xiǎn)，影响我(wǒ)国国家安全。为此，网络安(ān)全审查办公(gōng)室依法作出不予通(tōng)过网络安全审查的结论。按照《网络安全法》等(děng)法律法规，我国内(nèi)关键信息基础设施的运营(yíng)者应(yīng)停止采购美(měi)光公司产品。

　　此次对美光公司产品(pǐn)进行(xíng)网络安(ān)全审查，目(mù)的(de)是(shì)防范产品(pǐn)网络安全问题(tí)危害国家关键信息基础设(shè)施(shī)安全，是维护国家安全(quán)的必要措施。中(zhōng)国坚定推进(jìn)高水平(píng)对外开放(fàng)，只(zhǐ)要遵守中国法律法(fǎ)规要求，欢迎(yíng)各国(guó)企(qǐ)业、各类平台产品服务(wù)进入中国市场。

　　3月31日(rì)，中国网信网(wǎng)发文称，为保障关键信(xìn)息基础设施(shī)供应链安全，防范产(chǎn)品问题隐患造(zào)成刚和别人做完回家能发现吗，刚和别人做完能从外表看出来吗网络安全风险(xiǎn)，维(wéi)护(hù)国家(jiā)安全(quán)，依据《中华人民共和国(guó)国家安全法》《中华(huá)人民共和国(guó)网络安(ān)全法》，网络(luò)安全(quán)审查办(bàn)公室按照《网络安全审(shěn)查办法》，对美光公(gōng)司（Micron）在华销(xiāo)售(shòu)的产品实(shí)施(shī)网络安全审查。

　　美光是(shì)美国的存储芯片行业龙头(tóu)，也是(shì)全球存储芯片巨头(tóu)之一，2022年(nián)收入来(lái)自中国市场收入从此前(qián)高峰57％降至2022年约11％。根据市场咨询(xún)机(jī)构 Omdia（IHS Markit）统计(jì)，2021 年三(sān)星电子、 铠(kǎi)侠、西部数据、SK 海力士、美(měi)光(guāng)、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存(cún)）市(shì)场(chǎng)份额约(yuē)为 96.76％，三(sān)星电子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM （内(nèi)存）市场份额约为 94.35％。

　　A股上(shàng)市公司中(zhōng)，江波(bō)龙、佰维(wéi)存(cún)储(chǔ)等公司披露过美(měi)光(guāng)等国际存储厂商为公司供应商。

　　美光在(zài)江波龙(lóng)采购占比(bǐ)已经显著下(xià)降(jiàng)，至(zhì)少(shǎo)已经不是主要(yào)大(dà)供应商(shāng)。

　　公告显示(shì)， 2021年美光位列(liè)江波(bō)龙(lóng)第一大存储晶圆供应(yīng)商，采购约31亿元(yuán)，占(zhàn)比33.52％；2022年，江波(bō)龙第一大、第二(èr)大和第三大供应商(shāng)采购金额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江(jiāng)波龙已经在(zài)存储产业链(liàn)上下游建立国内外(wài)广(guǎng)泛(fàn)合作。2022年年报显(xiǎn)示，江波龙与三(sān)星、美光、西部数据等主要存储晶圆原厂签署了长期(qī)合约，确(què)保存储晶圆(yuán)供应的稳定性，巩固公司(sī)在下游市场的供应优势(shì)，公司也与国内国(guó)产存储晶圆原厂武汉长江(jiāng)存储、合肥长鑫保持良好的(de)合作。

　　有券商此前就(jiù)分析，如果(guǒ)美光在(zài)中国区(qū)销售(shòu)受到(dào)限(xiàn)制，或将(jiāng)导致下(xià)游(yóu)客户转而(ér)采购国外三(sān)星、 SK海力士(shì)，刚和别人做完回家能发现吗，刚和别人做完能从外表看出来吗ng>国内(nèi)长江存(cún)储、长鑫存储(chǔ)等(děng)竞(jìng)对产品

　　分析(xī)称(chēng)，长存、长鑫的上游设备厂或从中受(shòu)益。存储器的生产(chǎn)已经演进到1Xnm、1Ynm甚(shèn)至1Znm的工艺。另外(wài)NAND Flash现在(zài)已(yǐ)经(jīng)进入3D NAND时代，2 维到3维(wéi)的结构转(zhuǎn)变使刻蚀和薄膜成(chéng)为最关键(jiàn)、最(zuì)大(dà)量的(de)加工(gōng)设备。3D NAND每层均(jūn)需(xū)要经过(guò)薄膜沉积工艺步骤，同时刻蚀(shí)目前前(qián)沿要刻到 60：1的深孔，未来可能(néng)会(huì)更深的孔或者沟槽(cáo)，催(刚和别人做完回家能发现吗，刚和别人做完能从外表看出来吗cuī)生更多设备需求。据东京电子披露，薄膜(mó)沉积(jī)设备(bèi)及(jí)刻蚀占3D NAND产线资(zī)本开(kāi)支合计为75％。自长江(jiāng)存储被(bèi)加入美国(guó)限(xiàn)制名单，设(shè)备(bèi)国产化进程加速，看好拓荆科技（薄膜沉积）等相关(guān)公司份(fèn)额提升，以及存储业务(wù)占比较高的华海清科(kē)（CMP）、盛美上海(hǎi)（清洗(xǐ)）等收入(rù)增长。

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